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2023-2027年中國半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀及潛力分析研究報告
2023-04-28
  • [報告ID] 191576
  • [關(guān)鍵詞] 半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)發(fā)展
  • [報告名稱] 2023-2027年中國半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀及潛力分析研究報告
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報告簡介

報告目錄
2023-2027年中國半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀及潛力分析研究報告

第一章 半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)基本概述
第二章 2021-2023年中國半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)發(fā)展環(huán)境PEST分析
2.1 政策環(huán)境(Political)
2.1.1 行業(yè)主管部門與監(jiān)管體制
2.1.2 半導(dǎo)體設(shè)備政策匯總
2.1.3 半導(dǎo)體制造利好政策
2.1.4 集成電路企業(yè)稅收優(yōu)惠
2.1.5 集成電路產(chǎn)業(yè)政策扶持
2.1.6 產(chǎn)業(yè)投資基金的支持
2.2 經(jīng)濟環(huán)境(Economic)
2.2.1 宏觀經(jīng)濟發(fā)展概況
2.2.2 工業(yè)經(jīng)濟運行情況
2.2.3 固定資產(chǎn)投資狀況
2.2.4 未來經(jīng)濟發(fā)展展望
2.3 社會環(huán)境(Social)
2.3.1 電子信息產(chǎn)業(yè)增速
2.3.2 電子產(chǎn)品消費情況
2.3.3 新能源汽車銷售情況
2.3.4 研發(fā)經(jīng)費投入增長
2.3.5 科技人才隊伍壯大
2.4 技術(shù)環(huán)境(Technological)
2.4.1 企業(yè)研發(fā)投入
2.4.2 技術(shù)迭代歷程
2.4.3 企業(yè)專利狀況
第三章 2021-2023年半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展?fàn)顩r
3.1 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈分析
3.1.1 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈結(jié)構(gòu)
3.1.2 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈流程
3.1.3 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈轉(zhuǎn)移
3.2 2021-2023年全球半導(dǎo)體市場總體分析
3.2.1 市場銷售規(guī)模
3.2.2 行業(yè)產(chǎn)品結(jié)構(gòu)
3.2.3 區(qū)域市場格局
3.2.4 產(chǎn)業(yè)研發(fā)投入
3.2.5 市場競爭狀況
3.2.6 企業(yè)支出狀況
3.2.7 產(chǎn)業(yè)發(fā)展前景
3.3 2021-2023年中國半導(dǎo)體市場運行狀況
3.3.1 產(chǎn)業(yè)發(fā)展歷程
3.3.2 產(chǎn)業(yè)銷售規(guī)模
3.3.3 市場結(jié)構(gòu)分布
3.3.4 產(chǎn)業(yè)貿(mào)易情況
3.3.5 產(chǎn)業(yè)區(qū)域分布
3.3.6 市場機會分析
3.4 2020-2022中國IC設(shè)計行業(yè)發(fā)展分析
3.4.1 行業(yè)發(fā)展歷程
3.4.2 行業(yè)發(fā)展優(yōu)勢
3.4.3 市場發(fā)展規(guī)模
3.4.4 企業(yè)發(fā)展?fàn)顩r
3.4.5 產(chǎn)業(yè)地域分布
3.4.6 專利申請情況
3.4.7 資本市場表現(xiàn)
3.4.8 行業(yè)面臨挑戰(zhàn)
3.4.9 行業(yè)發(fā)展建議
3.5 2021-2023年中國IC制造行業(yè)發(fā)展分析
3.5.1 制造工藝分析
3.5.2 晶圓加工技術(shù)
3.5.3 市場發(fā)展規(guī)模
3.5.4 企業(yè)排名狀況
3.5.5 行業(yè)發(fā)展措施
3.6 2021-2023年中國IC封裝測試行業(yè)發(fā)展分析
3.6.1 封裝基本介紹
3.6.2 封裝技術(shù)趨勢
3.6.3 芯片測試原理
3.6.4 市場發(fā)展規(guī)模
3.6.5 芯片測試分類
3.6.6 企業(yè)排名狀況
3.6.7 技術(shù)發(fā)展趨勢
第四章 2021-2023年半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)發(fā)展綜合分析
4.1 2021-2023年全球半導(dǎo)體設(shè)備市場發(fā)展形勢
4.1.1 市場銷售規(guī)模
4.1.2 市場結(jié)構(gòu)分析
4.1.3 市場區(qū)域分布
4.1.4 市場競爭格局
4.1.5 重點廠商介紹
4.1.6 市場規(guī)模預(yù)測
4.2 2021-2023年中國半導(dǎo)體設(shè)備市場發(fā)展?fàn)顩r
4.2.1 市場銷售規(guī)模
4.2.2 市場需求分析
4.2.3 企業(yè)競爭態(tài)勢
4.2.4 企業(yè)產(chǎn)品布局
4.2.5 企業(yè)招標(biāo)情況
4.2.6 市場國產(chǎn)化率
4.3 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)核心設(shè)備——晶圓制造設(shè)備市場運行分析
4.3.1 設(shè)備基本概述
4.3.2 市場發(fā)展規(guī)模
4.3.3 市場結(jié)構(gòu)占比
4.3.4 核心環(huán)節(jié)分析
4.3.5 區(qū)域競爭格局
4.3.6 主要廠商介紹
4.4 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)核心設(shè)備——晶圓加工設(shè)備市場運行分析
4.4.1 設(shè)備基本概述
4.4.2 市場發(fā)展規(guī)模
4.4.3 市場價值構(gòu)成
4.4.4 市場結(jié)構(gòu)分析
第五章 2021-2023年半導(dǎo)體光刻設(shè)備市場發(fā)展分析
5.1 半導(dǎo)體光刻環(huán)節(jié)基本概述
5.1.1 光刻工藝重要性
5.1.2 光刻工藝的原理
5.1.3 光刻工藝的流程
5.2 半導(dǎo)體光刻技術(shù)發(fā)展分析
5.2.1 光刻技術(shù)原理
5.2.2 光刻技術(shù)歷程
5.2.3 光學(xué)光刻技術(shù)
5.2.4 EUV光刻技術(shù)
5.2.5 X射線光刻技術(shù)
5.2.6 納米壓印光刻技術(shù)
5.3 2021-2023年光刻機市場發(fā)展綜述
5.3.1 光刻機工作原理
5.3.2 光刻機發(fā)展歷程
5.3.3 光刻機產(chǎn)業(yè)鏈條
5.3.4 光刻機市場規(guī)模
5.3.5 光刻機競爭格局
5.3.6 光刻機技術(shù)差距
5.4 光刻設(shè)備核心產(chǎn)品——EUV光刻機市場狀況
5.4.1 EUV光刻機基本介紹
5.4.2 典型企業(yè)經(jīng)營狀況
5.4.3 EUV光刻機需求企業(yè)
5.4.4 EUV光刻機研發(fā)分析
第六章 2021-2023年半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備市場發(fā)展分析
6.1 半導(dǎo)體刻蝕環(huán)節(jié)基本概述
6.1.1 刻蝕工藝介紹
6.1.2 刻蝕工藝分類
6.1.3 刻蝕工藝參數(shù)
6.2 干法刻蝕工藝發(fā)展優(yōu)勢分析
6.2.1 干法刻蝕優(yōu)點分析
6.2.2 干法刻蝕應(yīng)用分類
6.2.3 干法刻蝕技術(shù)演進(jìn)
6.3 2021-2023年全球半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備市場發(fā)展?fàn)顩r
6.3.1 市場發(fā)展規(guī)模
6.3.2 細(xì)分市場結(jié)構(gòu)
6.3.3 市場競爭格局
6.3.4 設(shè)備研發(fā)支出
6.4 2021-2023年中國半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備市場發(fā)展?fàn)顩r
6.4.1 市場發(fā)展規(guī)模
6.4.2 市場分布結(jié)構(gòu)
6.4.3 企業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀
6.4.4 市場需求狀況
6.4.5 市場發(fā)展機遇
第七章 2021-2023年半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場發(fā)展分析
7.1 半導(dǎo)體清洗環(huán)節(jié)基本概述
7.1.1 清洗環(huán)節(jié)的重要性
7.1.2 清洗工藝類型比較
7.1.3 清洗設(shè)備技術(shù)原理
7.1.4 清洗設(shè)備主要類型
7.1.5 清洗設(shè)備主要部件
7.2 2021-2023年半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場發(fā)展?fàn)顩r
7.2.1 市場發(fā)展規(guī)模
7.2.2 市場競爭格局
7.2.3 市場發(fā)展機遇
7.2.4 市場發(fā)展趨勢
7.3 半導(dǎo)體清洗機領(lǐng)先企業(yè)布局狀況
7.3.1 迪恩士公司
7.3.2 盛美半導(dǎo)體
7.3.3 至純科技公司
7.3.4 國產(chǎn)化布局
第八章 2021-2023年半導(dǎo)體測試設(shè)備市場發(fā)展分析
8.1 半導(dǎo)體測試環(huán)節(jié)基本概述
8.1.1 測試流程介紹
8.1.2 前道工藝檢測
8.1.3 中后道的測試
8.2 2021-2023年半導(dǎo)體測試設(shè)備市場發(fā)展?fàn)顩r
8.2.1 市場發(fā)展規(guī)模
8.2.2 市場競爭格局
8.2.3 細(xì)分市場結(jié)構(gòu)
8.2.4 設(shè)備制造廠商
8.2.5 主要產(chǎn)品介紹
8.2.6 招投標(biāo)情況
8.3 半導(dǎo)體測試設(shè)備重點企業(yè)發(fā)展啟示
8.3.1 泰瑞達(dá)
8.3.2 愛德萬
8.4 半導(dǎo)體測試核心設(shè)備發(fā)展分析
8.4.1 測試機
8.4.2 分選機
8.4.3 探針臺
第九章 2021-2023年半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)其他設(shè)備市場發(fā)展分析
9.1 單晶爐設(shè)備
9.1.1 設(shè)備基本概述
9.1.2 設(shè)備數(shù)量規(guī)模
9.1.3 企業(yè)競爭格局
9.2 氧化/擴散設(shè)備
9.2.1 設(shè)備基本概述
9.2.2 市場發(fā)展現(xiàn)狀
9.2.3 企業(yè)競爭格局
9.2.4 核心產(chǎn)品介紹
9.3 薄膜沉積設(shè)備
9.3.1 設(shè)備基本概述
9.3.2 市場發(fā)展現(xiàn)狀
9.3.3 企業(yè)競爭格局
9.3.4 設(shè)備招投標(biāo)情況
9.3.5 市場前景展望
9.4 化學(xué)機械拋光設(shè)備
9.4.1 設(shè)備基本概述
9.4.2 市場發(fā)展規(guī)模
9.4.3 主要企業(yè)分析
9.4.4 設(shè)備招投標(biāo)情況
9.4.5 市場前景展望
第十章 2021-2023年國外半導(dǎo)體設(shè)備重點企業(yè)經(jīng)營狀況
10.1 應(yīng)用材料公司(Applied Materials, Inc.)
10.1.1 企業(yè)發(fā)展概況
10.1.2 企業(yè)發(fā)展歷程
10.1.3 企業(yè)核心產(chǎn)品
10.1.4 2021財年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
10.1.5 2022財年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
10.1.6 2023財年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
10.1.7 企業(yè)發(fā)展前景
10.2 泛林集團(tuán)(Lam Research Corp.)
10.2.1 企業(yè)發(fā)展概況
10.2.2 企業(yè)核心產(chǎn)品
10.2.3 2022財年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
10.2.4 2023財年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
10.2.5 2023財年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
10.2.6 企業(yè)發(fā)展前景
10.3 阿斯麥公司(ASML Holding NV)
10.3.1 企業(yè)發(fā)展概況
10.3.2 企業(yè)發(fā)展歷程
10.3.3 企業(yè)核心產(chǎn)品
10.3.4 2021財年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
10.3.5 2022財年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
10.3.6 2023財年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
10.3.7 企業(yè)發(fā)展前景
10.4 東京電子(Tokyo Electron, TEL)
10.4.1 企業(yè)發(fā)展概況
10.4.2 企業(yè)核心產(chǎn)品
10.4.3 2022財年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
10.4.4 2023財年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
10.4.5 2023財年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
10.4.6 企業(yè)發(fā)展前景
第十一章 國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備重點企業(yè)經(jīng)營狀況分析
11.1 浙江晶盛機電股份有限公司
11.1.1 企業(yè)發(fā)展概況
11.1.2 經(jīng)營效益分析
11.1.3 業(yè)務(wù)經(jīng)營分析
11.1.4 財務(wù)狀況分析
11.1.5 核心競爭力分析
11.1.6 公司發(fā)展戰(zhàn)略
11.1.7 未來前景展望
11.2 深圳市捷佳偉創(chuàng)新能源裝備股份有限公司
11.2.1 企業(yè)發(fā)展概況
11.2.2 經(jīng)營效益分析
11.2.3 業(yè)務(wù)經(jīng)營分析
11.2.4 財務(wù)狀況分析
11.2.5 核心競爭力分析
11.2.6 公司發(fā)展戰(zhàn)略
11.3 中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司
11.3.1 企業(yè)發(fā)展概況
11.3.2 主要產(chǎn)品進(jìn)展
11.3.3 經(jīng)營效益分析
11.3.4 業(yè)務(wù)經(jīng)營分析
11.3.5 財務(wù)狀況分析
11.3.6 核心競爭力分析
11.3.7 公司發(fā)展戰(zhàn)略
11.3.8 未來前景展望
11.4 北方華創(chuàng)科技集團(tuán)股份有限公司
11.4.1 企業(yè)發(fā)展概況
11.4.2 經(jīng)營效益分析
11.4.3 業(yè)務(wù)經(jīng)營分析
11.4.4 財務(wù)狀況分析
11.4.5 核心競爭力分析
11.4.6 未來前景展望
11.5 沈陽芯源微電子設(shè)備股份有限公司
11.5.1 企業(yè)發(fā)展概況
11.5.2 經(jīng)營效益分析
11.5.3 業(yè)務(wù)經(jīng)營分析
11.5.4 財務(wù)狀況分析
11.5.5 核心競爭力分析
11.5.6 公司發(fā)展戰(zhàn)略
11.5.7 未來前景展望
11.6 北京華峰測控技術(shù)股份有限公司
11.6.1 企業(yè)發(fā)展概況
11.6.2 經(jīng)營效益分析
11.6.3 業(yè)務(wù)經(jīng)營分析
11.6.4 財務(wù)狀況分析
11.6.5 核心競爭力分析
11.6.6 公司發(fā)展戰(zhàn)略
11.6.7 未來前景展望
11.7 中電科電子
11.7.1 企業(yè)發(fā)展概況
11.7.2 企業(yè)核心產(chǎn)品
11.7.3 企業(yè)參與項目
11.7.4 產(chǎn)品研發(fā)動態(tài)
11.7.5 企業(yè)發(fā)展前景
11.8 上海微電子
11.8.1 企業(yè)發(fā)展概況
11.8.2 企業(yè)發(fā)展歷程
11.8.3 企業(yè)參與項目
11.8.4 企業(yè)創(chuàng)新能力
11.8.5 企業(yè)發(fā)展地位
第十二章 半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)投資價值分析
12.1 半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)并購市場發(fā)展?fàn)顩r
12.1.1 企業(yè)并購歷史回顧
12.1.2 行業(yè)并購特征分析
12.1.3 企業(yè)并購動機歸因
12.1.4 行業(yè)企業(yè)并購動態(tài)
12.2 中國半導(dǎo)體設(shè)備市場投資機遇分析
12.2.1 整體投資機遇分析
12.2.2 晶圓廠投資需求
12.2.3 產(chǎn)業(yè)政策扶持發(fā)展
12.3 半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)投資機會點分析
12.3.1 薄膜工藝設(shè)備
12.3.2 刻蝕工藝設(shè)備
12.3.3 光刻工藝設(shè)備
12.3.4 清洗工藝設(shè)備
12.4 半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)投資壁壘分析
12.4.1 技術(shù)壁壘分析
12.4.2 客戶驗證壁壘
12.4.3 競爭壁壘分析
12.4.4 資金壁壘分析
12.5 半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)投資風(fēng)險分析
12.5.1 經(jīng)營風(fēng)險分析
12.5.2 行業(yè)風(fēng)險分析
12.5.3 宏觀環(huán)境風(fēng)險
12.5.4 知識產(chǎn)權(quán)風(fēng)險
12.5.5 人才資源風(fēng)險
12.5.6 技術(shù)研發(fā)風(fēng)險
12.6 半導(dǎo)體設(shè)備投資價值評估及建議
12.6.1 投資價值綜合評估
12.6.2 行業(yè)投資特點分析
12.6.3 行業(yè)投資策略建議
第十三章 中國半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)標(biāo)桿企業(yè)項目投資建設(shè)案例深度解析
13.1 先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備的技術(shù)研發(fā)與改進(jìn)項目
13.1.1 項目基本概述
13.1.2 項目必要性
13.1.3 項目可行性
13.1.4 項目投資概算
13.1.5 項目建設(shè)規(guī)劃和進(jìn)度
13.2 半導(dǎo)體設(shè)備研發(fā)與制造中心項目
13.2.1 項目基本概述
13.2.2 項目可行性
13.2.3 資金需求測算
13.2.4 實施進(jìn)度安排
13.3 探針臺研發(fā)及產(chǎn)業(yè)基地建設(shè)項目
13.3.1 項目基本概述
13.3.2 資金需求測算
13.3.3 建設(shè)內(nèi)容規(guī)劃
13.3.4 實施進(jìn)度安排
13.3.5 經(jīng)濟效益分析
13.4 高端晶圓處理設(shè)備產(chǎn)業(yè)化項目
13.4.1 項目基本概述
13.4.2 資金需求測算
13.4.3 建設(shè)內(nèi)容規(guī)劃
13.4.4 實施進(jìn)度安排
13.4.5 經(jīng)濟效益分析
第十四章 2023-2027年中國半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)發(fā)展趨勢及預(yù)測分析
14.1 中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)未來發(fā)展趨勢
14.1.1 技術(shù)發(fā)展利好
14.1.2 自主創(chuàng)新發(fā)展
14.1.3 產(chǎn)業(yè)地位提升
14.1.4 市場應(yīng)用前景
14.2 中國半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)發(fā)展前景展望
14.2.1 政策支持發(fā)展
14.2.2 行業(yè)發(fā)展機遇
14.2.3 市場應(yīng)用需求
14.2.4 行業(yè)發(fā)展前景
14.3  2023-2027年中國半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)預(yù)測分析
14.3.1 2023-2027年中國半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)影響因素分析
14.3.2 2023-2027年中國半導(dǎo)體設(shè)備銷售規(guī)模預(yù)測

圖表目錄
圖表1 半導(dǎo)體分類結(jié)構(gòu)圖
圖表2 半導(dǎo)體分類
圖表3 半導(dǎo)體分類及應(yīng)用
圖表4 半導(dǎo)體設(shè)備構(gòu)成
圖表5 IC芯片制造核心工藝主要設(shè)備全景圖
圖表6 中國半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)相關(guān)政策匯總
圖表7 《中國制造2025》半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)政策目標(biāo)與政策支持
圖表8 2015-2030年IC產(chǎn)業(yè)政策目標(biāo)與發(fā)展重點
圖表9 一期大基金投資各領(lǐng)域份額占比
圖表10 國家集成電路產(chǎn)業(yè)基金二期出資方(一)
圖表11 國家集成電路產(chǎn)業(yè)基金二期出資方(二)
圖表12 國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金二期投資方向
圖表13 2017-2021年生產(chǎn)總值及其增長速度
圖表14 2017-2021年三次產(chǎn)業(yè)增加值占生產(chǎn)總值比重
圖表15 2017-2021年全員勞動生產(chǎn)率
圖表16 2022年GDP初步核算數(shù)據(jù)
圖表17 2017-2022年GDP同比增長速度
圖表18 2022年GDP環(huán)比增長速度
圖表19 2016-2020年全部工業(yè)增加值及其增長速度
圖表20 2020年主要工業(yè)產(chǎn)品產(chǎn)量及其增長速度
圖表21 2017-2021年全部工業(yè)增加值及其增長速度
圖表22 2021年主要工業(yè)產(chǎn)品產(chǎn)量及其增長速度
圖表23 2021-2022年規(guī)模以上工業(yè)增加值同比增長速度
圖表24 2022年規(guī)模以上工業(yè)生產(chǎn)主要數(shù)據(jù)
圖表25 2020年三次產(chǎn)業(yè)投資占固定資產(chǎn)投資比重(不含農(nóng)戶)
圖表26 2020年分行業(yè)固定資產(chǎn)投資(不含農(nóng)戶)增長速度
圖表27 2020年固定資產(chǎn)投資新增主要生產(chǎn)與運營能力
圖表28 2021年三次產(chǎn)業(yè)投資占固定資產(chǎn)投資比重(不含農(nóng)戶)
圖表29 2021年分行業(yè)固定資產(chǎn)投資(不含農(nóng)戶)增長速度
圖表30 2021年固定資產(chǎn)投資新增主要生產(chǎn)與運營能力
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