按照曝光波長(zhǎng)不同，光刻膠可分為離子束光刻膠、電子束光刻膠、X射線光刻膠、深紫外光刻膠、紫外光刻膠以及極紫外光刻膠。極紫外光刻技術(shù)是一種先進(jìn)半導(dǎo)體光刻技術(shù)，通常采用13.4納米波長(zhǎng)的紫外線作為光源。極紫外光刻膠又稱EUV光刻膠，具有化學(xué)穩(wěn)定性好、熱穩(wěn)定性佳、敏感性高等優(yōu)勢(shì)，是一種專用于極紫外光刻技術(shù)中的光刻膠。    
  極紫外光刻膠主要應(yīng)用于極紫外光刻技術(shù)中，集成電路領(lǐng)域?yàn)槠渲饕�需求端。受益于技術(shù)進(jìn)步，我國(guó)大規(guī)模及超大規(guī)模集成電路市場(chǎng)占比不斷提升，產(chǎn)品在滿足本土市場(chǎng)需求的同時(shí)，遠(yuǎn)銷海外眾多國(guó)家。未來(lái)伴隨下游行業(yè)發(fā)展速度加快，極紫外光刻膠市場(chǎng)空間將進(jìn)一步擴(kuò)展。
我國(guó)極紫外光刻膠行業(yè)尚處于起步階段，以實(shí)驗(yàn)室研發(fā)為主，未實(shí)現(xiàn)商業(yè)化應(yīng)用。目前，我國(guó)已布局極紫外光刻膠行業(yè)研發(fā)賽道的企業(yè)及科研單位包括中國(guó)科學(xué)院理化技術(shù)研究所、中國(guó)科學(xué)院化學(xué)研究所、九峰山實(shí)驗(yàn)室、大連理工大學(xué)、華中科技大學(xué)、清華大學(xué)、廣東粵港澳大灣區(qū)黃埔材料研究院、科華微電子等。
    2024年3月，我國(guó)華中科技大學(xué)科研團(tuán)隊(duì)與九峰山實(shí)驗(yàn)室研究人員合作，共同開(kāi)發(fā)出雙非離子型光酸協(xié)同增強(qiáng)響應(yīng)技術(shù)（CAP），使用該技術(shù)制成的極紫外光刻膠具有線邊緣粗糙度低、光穩(wěn)定性好、分辨率高等優(yōu)勢(shì)，有望在半導(dǎo)體連續(xù)化制造過(guò)程中獲得應(yīng)用。未來(lái)伴隨研究不斷深入，我國(guó)極紫外光刻膠技術(shù)成熟度將獲得進(jìn)一步提升。
   雖然極紫外光刻膠應(yīng)用前景廣闊，但其行業(yè)發(fā)展仍面臨諸多問(wèn)題亟待解決。一方面，極紫外光刻膠需能夠承受高能極紫外光源照射，對(duì)于靈敏度以及耐熱性有極高要求，目前我國(guó)具備其自主研發(fā)及生產(chǎn)實(shí)力的企業(yè)數(shù)量極少；另一方面，極紫外光刻膠在制備過(guò)程中易產(chǎn)生大量廢氣，對(duì)環(huán)境造成污染。
  極紫外光刻膠作為高性能光刻膠，在先進(jìn)半導(dǎo)體制造過(guò)程中應(yīng)用較多，未來(lái)伴隨下游行業(yè)發(fā)展速度加快，我國(guó)極紫外光刻膠行業(yè)景氣度將有所提升。目前，我國(guó)極紫外光刻膠行業(yè)尚處于起步階段，未來(lái)伴隨研究深入、技術(shù)進(jìn)步，其商用化進(jìn)程將有所加快。