電子束光刻膠又稱(chēng)EB光刻膠，指適用于電子束曝光技術(shù)的感光材料。電子束光刻膠需具備對(duì)比度高、分辨率高、深寬比能力高、對(duì)電子束能量響應(yīng)速度快、熱穩(wěn)定性好、抗蝕刻性佳等特性，在微電子制造、半導(dǎo)體制造、生物醫(yī)學(xué)、納米科學(xué)研究等領(lǐng)域應(yīng)用較多。
     按照曝光前后溶解度變化不同，電子束光刻膠可分為正性膠和負(fù)性膠兩種類(lèi)型。正性膠以SU-8 GM1010電子束光刻膠為代表，具有金屬粘附性好、高寬比大、耐化學(xué)腐蝕、可單次旋涂超厚膜層等特點(diǎn)，主要用于微細(xì)加工環(huán)節(jié)；負(fù)性膠在受到電子束曝光后不易溶解，適用于半導(dǎo)體分立器件制備過(guò)程中，HSQ無(wú)機(jī)負(fù)膠、XR-1541-002/004/006等為其代表產(chǎn)品。
     電子束光刻膠在眾多領(lǐng)域擁有廣闊應(yīng)用前景。在微電子制造領(lǐng)域，電子束光刻膠可用于處理掩模版刻蝕層。掩膜版為集成電路光刻工藝中使用的重要元件。受益于國(guó)家政策支持，我國(guó)集成電路出貨量不斷增長(zhǎng)。據(jù)國(guó)家工信部統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示，2023年我國(guó)集成電路產(chǎn)量達(dá)到3514億塊，同比增長(zhǎng)6.9%。未來(lái)隨著下游行業(yè)快速發(fā)展，我國(guó)電子束光刻膠應(yīng)用需求將日益旺盛。
     在國(guó)際市場(chǎng)上，電子束光刻膠市場(chǎng)參與者包括美國(guó)Microchem公司、日本東京應(yīng)化工業(yè)株式會(huì)社（TOK）、日本合成橡膠株式會(huì)社（JSR）、日本信越化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社（Shin-Etsu）等。在本土市場(chǎng)上，隨著行業(yè)景氣度提升，我國(guó)布局電子束光刻膠研發(fā)及生產(chǎn)賽道的企業(yè)數(shù)量持續(xù)增長(zhǎng)，主要包括容大感光、華懋科技、晶瑞電材、彤程新材等。
     徐州博康為華懋科技旗下子公司，是我國(guó)較早參與光刻膠材料研發(fā)及生產(chǎn)的企業(yè)之一。徐州博康擁有從單體樹(shù)脂到高端光刻膠的完整產(chǎn)業(yè)鏈體系，已為我國(guó)多家企業(yè)及科研機(jī)構(gòu)提供定制化電子束光刻膠，其產(chǎn)品主要包含PHS體系、HSQ體系以及PMMA體系三種類(lèi)別。據(jù)華懋科技企業(yè)半年報(bào)顯示，2023年上半年徐州博康實(shí)現(xiàn)營(yíng)收0.9億元。
     電子束光刻膠作為光刻膠細(xì)分產(chǎn)品，在微電子制造領(lǐng)域擁有廣闊應(yīng)用前景，未來(lái)伴隨下游行業(yè)快速發(fā)展，其市場(chǎng)空間將不斷擴(kuò)展。目前，我國(guó)已有多家企業(yè)布局電子束光刻膠行業(yè)研發(fā)及生產(chǎn)賽道，帶動(dòng)其市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)日益激烈。未來(lái)隨著技術(shù)進(jìn)步，我國(guó)高品質(zhì)電子束光刻膠市場(chǎng)占比將有所提升。