碳化硅陶瓷真空吸盤是新一代高性能真空吸盤之一，可以廣泛應(yīng)用在礦山、冶金、化工、制藥、玻璃陶瓷、光伏、光學(xué)儀器、電子、半導(dǎo)體等領(lǐng)域，能夠滿足礦山等行業(yè)的抗磨損需求，冶金等行業(yè)的高溫需求，化工等行業(yè)的抗腐蝕需求，以及半導(dǎo)體、電子等行業(yè)的精密加工與裝配需求。
　　真空吸盤是一種重要的吸附工具，可以應(yīng)用在固定、搬運(yùn)、裝配等場(chǎng)景。傳統(tǒng)真空吸盤的耐磨損性、耐高溫性、耐腐蝕性存在一定局限，金屬吸盤還存在不防靜電的缺點(diǎn)，在部分領(lǐng)域應(yīng)用受到限制。
　　碳化硅陶瓷具有密度小、硬度大、抗彎強(qiáng)度高、耐磨損、摩擦系數(shù)低、熱膨脹系數(shù)低、高溫強(qiáng)度大、導(dǎo)熱系數(shù)高、高溫抗氧化、耐腐蝕、絕緣等優(yōu)點(diǎn)，是一種綜合性能優(yōu)異的先進(jìn)陶瓷材料，可用來制造適合苛刻環(huán)境下使用的真空吸盤。
　　碳化硅陶瓷真空吸盤采用多孔陶瓷，是碳化硅高溫?zé)�蝕得到的多孔且孔徑均勻的陶瓷材料，經(jīng)研磨拋光后表面質(zhì)量高，可以應(yīng)用在半導(dǎo)體領(lǐng)域，用于硅晶圓、藍(lán)寶石晶圓、砷化鎵晶圓等制造領(lǐng)域，使用時(shí)給予負(fù)壓，將晶圓穩(wěn)固吸附于真空吸盤上，作為加持、承載工具，實(shí)現(xiàn)減薄、切割、清洗等操作。
　　碳化硅陶瓷真空吸盤的孔洞直徑細(xì)小，不會(huì)對(duì)晶圓表面造成劃傷；碳化硅陶瓷具有電阻率高、絕緣性好的特點(diǎn)，制造真空吸盤可防止靜電損壞晶圓；碳化硅陶瓷真空吸盤結(jié)構(gòu)致密、強(qiáng)度大、耐磨損，不易產(chǎn)生破裂、碎片等問題；碳化硅陶瓷不易變形，真空吸盤可重復(fù)使用，使用壽命長(zhǎng)。
　　光刻機(jī)零部件中包括多種陶瓷部件，例如工件臺(tái)、方鏡、真空吸盤、水冷盤等。碳化硅陶瓷可經(jīng)過精密加工用來制造這些陶瓷部件，成為理想選擇材料之一。但燒結(jié)結(jié)構(gòu)致密、大尺寸的碳化硅陶瓷難度較高，并且碳化硅陶瓷硬度大、脆性大，精密加工難度大，因此光刻機(jī)用碳化硅陶瓷真空吸盤僅有日本京瓷Kyocera、美國CoorsTek等少數(shù)企業(yè)可以生產(chǎn)。
　　我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)規(guī)模龐大，根據(jù)工信部公布數(shù)據(jù)顯示，2023年，我國集成電路產(chǎn)量為3514億塊，同比增長(zhǎng)6.9%。光刻是半導(dǎo)體芯片最關(guān)鍵的工藝環(huán)節(jié)，光刻機(jī)不可或缺。在國際政治形勢(shì)多變背景下，為避免被卡脖子，我國光刻機(jī)自主研發(fā)生產(chǎn)步伐正在加速，光刻機(jī)用碳化硅陶瓷真空吸盤開發(fā)應(yīng)用潛力大。
   我國最新版《產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整指導(dǎo)目錄（2024年本）》中，將面向新一代光刻機(jī)用碳化硅陶瓷水冷真空吸盤（浸沒式）制備關(guān)鍵技術(shù)研發(fā)與應(yīng)用列為鼓勵(lì)類項(xiàng)目�？偟膩砜�，我國碳化硅陶瓷真空吸盤行業(yè)發(fā)展前景良好，特別是應(yīng)用在光刻機(jī)領(lǐng)域的高端產(chǎn)品發(fā)展前景廣闊。目前，我國光刻機(jī)用碳化硅陶瓷真空吸盤研發(fā)生產(chǎn)商主要有中國建筑材料科學(xué)研究總院、寧波伏爾肯科技股份有限公司等。