介質(zhì)阻擋放電直接電離質(zhì)譜技術，即DBDI直接電離質(zhì)譜技術，是基于介質(zhì)阻擋放電機理的直接電離質(zhì)譜離子化技術。
　　介質(zhì)阻擋放電（DBD）是把絕緣介質(zhì)插入放電空間的一種非平衡態(tài)氣體放電，分為細絲模式的DBD、均勻模式的DBD。DBD是一種非熱等離子體，穩(wěn)定性高，特別適合于工業(yè)化應用，在大型臭氧發(fā)生器、等離子體顯示屏、材料表面處理、生物醫(yī)學等領域應用廣泛。
　　直接電離質(zhì)譜技術是一種新型質(zhì)譜技術，相比傳統(tǒng)質(zhì)譜聯(lián)用技術，具有檢測速度快、檢測成本低、使用門檻低等優(yōu)勢。近年來，日本島津、美國沃特世、PerkinElmer等全球多家質(zhì)譜公司都有開發(fā)直接電離質(zhì)譜技術，目前國際上公認的直接電離質(zhì)譜技術有原位解吸電噴霧電離（DESI）、實時直接分析（DART）、ASAP、DBDI等。DESI、DART直接電離質(zhì)譜技術進入市場早，應用相對廣泛。
　　相比于DESI、DART直接電離質(zhì)譜技術，DBDI直接電離質(zhì)譜技術具有靈敏度更高、電離范圍更寬、離子化效率更高、分子離子碎片更少、無需化學溶劑等優(yōu)勢，在現(xiàn)場快速檢測質(zhì)譜儀、便攜式直接電離質(zhì)譜儀、小型質(zhì)譜儀研發(fā)方面應用潛力大。
　　離子源是可使測試樣品從液態(tài)中性分子轉(zhuǎn)化為氣態(tài)帶電離子的裝置，是質(zhì)譜儀的核心部件。質(zhì)譜儀是一種高精尖科學儀器，下游應用范圍廣，但由于離子源研制技術壁壘高，全球質(zhì)譜儀市場主要被美國、德國、日本等國家的企業(yè)所壟斷。由于缺乏原創(chuàng)性質(zhì)譜技術、企業(yè)研發(fā)能力差，長期以來，我國質(zhì)譜儀需求依賴進口。
　　寧波華儀寧創(chuàng)智能科技有限公司（華儀寧創(chuàng)）具有DBDI直接電離質(zhì)譜技術自主知識產(chǎn)權，基于該技術，華儀寧創(chuàng)已獨立研發(fā)了多款產(chǎn)品，包括敞開式大氣壓直接電離離子源、小型化現(xiàn)場快速篩查質(zhì)譜儀等，并在公安禁毒、食品安全、藥物分析等場景得到商業(yè)應用。
　　傳統(tǒng)質(zhì)譜儀占地面積大、操作要求苛刻，隨著分析檢測需求升級、集成化技術發(fā)展，質(zhì)譜儀正不斷從大型質(zhì)譜儀向小型質(zhì)譜儀、便攜式質(zhì)譜儀轉(zhuǎn)變。DBDI直接電離質(zhì)譜技術在小型質(zhì)譜儀研發(fā)方面應用潛力大，未來發(fā)展空間廣闊，同時DBDI直接電離質(zhì)譜技術是我國企業(yè)自主研發(fā)的質(zhì)譜技術，其轉(zhuǎn)化和應用有助于提高國產(chǎn)質(zhì)譜儀競爭力。