PECVD設(shè)備，全稱為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備，指利用等離子體來促進(jìn)化學(xué)氣相沉積過程的裝置。與傳統(tǒng)CVD設(shè)備相比，PECVD設(shè)備具有沉積速率快、可實(shí)現(xiàn)低溫操作、適應(yīng)性強(qiáng)、薄膜質(zhì)量好等優(yōu)勢(shì)，在顯示器制造、半導(dǎo)體制造以及太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域擁有廣闊應(yīng)用前景。
 PECVD設(shè)備通常由等離子體源、反應(yīng)腔、真空系統(tǒng)、基板加熱器、自動(dòng)化控制系統(tǒng)、氣體供應(yīng)系統(tǒng)等組件構(gòu)成。等離子體源通常為微波、射頻電源等能量源，能夠激發(fā)氣體以產(chǎn)生等離子體；反應(yīng)腔包含等離子體源以及氣體分配系統(tǒng)，為PECVD設(shè)備核心組件；真空系統(tǒng)主要用于維持真空環(huán)境，通常由壓力控制系統(tǒng)以及真空泵構(gòu)成。
PECVD設(shè)備在眾多領(lǐng)域擁有廣闊應(yīng)用前景，包括顯示器制造、半導(dǎo)體制造以及太陽(yáng)能電池等。在顯示器制造領(lǐng)域，PECVD設(shè)備可用于沉積顯示面板絕緣層以及透明導(dǎo)電氧化物薄膜（TCO）；在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，其可用于沉積a-Si薄膜、SiN薄膜以及SiO2薄膜等；在太陽(yáng)能電池領(lǐng)域，其主要用于薄膜太陽(yáng)能電池制造過程中。在應(yīng)用需求拉動(dòng)下，我國(guó)PECVD設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模不斷增長(zhǎng)，2023年達(dá)到近25億元。     在行業(yè)發(fā)展初期，受技術(shù)壁壘高、生產(chǎn)成本高等因素限制，我國(guó)PECVD設(shè)備高度依賴進(jìn)口。全球PECVD設(shè)備市場(chǎng)主要集中于歐美以及日本等國(guó)家，代表企業(yè)包括日本真空技術(shù)株式會(huì)社（ULVAC JAPAN）、日本東京電子有限公司（Tokyo Electron）、瑞士梅耶博格公司（Meyer Burger）、美國(guó)應(yīng)用材料公司（Applied Materials）、德國(guó)Centrotherm公司等。
經(jīng)過多年發(fā)展，我國(guó)PECVD設(shè)備制造技術(shù)不斷進(jìn)步，其市場(chǎng)國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程進(jìn)一步加快。我國(guó)PECVD設(shè)備主要生產(chǎn)商包括拓荊科技、盛美上海、微導(dǎo)納米、京山輕機(jī)、金辰股份等。拓荊科技具備ALD設(shè)備、PECVD設(shè)備、SACVD設(shè)備及HDPCVD設(shè)備等多種薄膜沉積設(shè)備自主研發(fā)及生產(chǎn)實(shí)力，其推出的集成電路PECVD設(shè)備已實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用。
PECVD設(shè)備作為薄膜沉積設(shè)備市場(chǎng)主流產(chǎn)品，在眾多領(lǐng)域擁有廣闊應(yīng)用前景。未來伴隨半導(dǎo)體、光伏發(fā)電以及顯示技術(shù)行業(yè)快速發(fā)展，我國(guó)PECVD設(shè)備市場(chǎng)需求將進(jìn)一步增長(zhǎng)。預(yù)計(jì)未來一段時(shí)間，隨著本土企業(yè)持續(xù)發(fā)力以及技術(shù)成熟度提升，我國(guó)國(guó)產(chǎn)PECVD設(shè)備市場(chǎng)空間將有所擴(kuò)展。