薄膜沉積設(shè)備，指在基板上沉積一層或多層薄膜材料的裝置。薄膜沉積設(shè)備具有成膜均勻性好、可在較低溫度下進行沉積操作、無需控制反應(yīng)物流量均勻性、適用于不同形狀基底等特點，在光學(xué)涂層、顯示技術(shù)、半導(dǎo)體制造以及光伏電池等諸多領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。
   按照工藝原理不同，薄膜沉積設(shè)備可分為原子層沉積（ALD）設(shè)備、化學(xué)氣相沉積（CVD）設(shè)備、離子體增強化學(xué)氣相沉積（PECVD）設(shè)備、次常壓化學(xué)氣相沉積（SACVD）設(shè)備、金屬有機化學(xué)氣相沉積（MOCVD）設(shè)備等多種類型。ALD設(shè)備具有反應(yīng)區(qū)域溫度均勻性優(yōu)良、能夠精確調(diào)節(jié)薄膜厚度等特點，屬于高性能薄膜沉積設(shè)備。未來伴隨技術(shù)進步，我國ALD設(shè)備市場占比有望提升，這將為薄膜沉積設(shè)備行業(yè)發(fā)展提供有利條件。
   薄膜沉積設(shè)備在眾多領(lǐng)域應(yīng)用廣泛，包括光學(xué)涂層、顯示技術(shù)、半導(dǎo)體制造以及光伏電池等，其中半導(dǎo)體制造領(lǐng)域為其主要需求端。近年來，隨著全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向我國大陸轉(zhuǎn)移，我國晶圓產(chǎn)能不斷擴張。2023年我國晶圓月均產(chǎn)能達到近660萬片，同比增長近15%。薄膜沉積設(shè)備主要用于晶圓制造工藝中，可以制造晶圓表面絕緣層以及導(dǎo)電層等。
   受益于應(yīng)用需求日益旺盛，我國薄膜沉積設(shè)備市場規(guī)模不斷增長。2023年我國薄膜沉積設(shè)備市場規(guī)模達到近95億美元，同比增長近15%。從細分產(chǎn)品來看，PECVD設(shè)備為我國薄膜沉積設(shè)備代表產(chǎn)品，市場占比達到近三成。未來隨著半導(dǎo)體制造業(yè)發(fā)展速度加快，我國薄膜沉積設(shè)備市場空間還將進一步擴展。
     受市場前景吸引，我國已有多家企業(yè)布局薄膜沉積設(shè)備行業(yè)研發(fā)及生產(chǎn)賽道，主要包括拓荊科技、北方華創(chuàng)、微導(dǎo)納米、中微公司等。目前，我國企業(yè)集中于生產(chǎn)中低端薄膜沉積設(shè)備，ALD設(shè)備、MOCVD設(shè)備以及SACVD設(shè)備等高端產(chǎn)品則依賴進口，日本及美國為我國主要進口國。
     薄膜沉積設(shè)備作為半導(dǎo)體制造重要設(shè)備，應(yīng)用需求旺盛，行業(yè)發(fā)展前景較好。未來隨著細分產(chǎn)品市場空間不斷擴展，我國薄膜沉積設(shè)備行業(yè)發(fā)展速度將有所加快。目前，我國已有多家企業(yè)具備薄膜沉積設(shè)備量產(chǎn)能力，未來具備高性能產(chǎn)品自主研發(fā)實力的企業(yè)將占據(jù)市場更大份額。