濺射靶材是通過磁控濺射技術、多弧離子鍍膜或其他鍍膜技術，將一定形狀的靶材（如圓片、長方體等）置于真空室內，通過高能離子的撞擊，靶材表面的原子或分子獲得足夠的能量并從表面脫離，最終沉積在基底材料上形成具有特殊功能的薄膜。根據(jù)成分的不同，濺射靶材可分為金屬靶材（如純金屬鋁、鈦、銅等）、合金靶材（如鉬鈮合金、鎳鉻合金等）以及陶瓷化合物靶材（如ITO等氧化物、氮化硅等）。
　　濺射靶材的應用領域極為廣泛，涵蓋了半導體芯片制造、平面顯示器生產(chǎn)、太陽能電池制備、信息存儲介質、工具改性以及電子器件制造等。在半導體芯片制造中，濺射靶材主要用于沉積導電、絕緣和屏蔽層，對制造高性能的集成電路至關重要。而在平面顯示器領域，濺射靶材則用于制備透明導電氧化物（TCO）薄膜，以提高顯示器的透光性和導電性。此外，濺射靶材還廣泛應用于太陽能電池中的吸光層和導電層制備，以及信息存儲介質中的磁記錄層制備等。
　　近年來，隨著全球電子信息產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，濺射靶材市場需求持續(xù)增長。特別是在半導體產(chǎn)業(yè)，隨著制程技術的不斷進步和芯片尺寸的不斷縮小，半導體行業(yè)內對濺射靶材的純度和精度要求越來越高，推動了全球濺射靶材市場的快速發(fā)展。
　　在中國市場，雖然濺射靶材行業(yè)起步晚，但是隨著國家對科技創(chuàng)新和產(chǎn)業(yè)升級的高度重視，以及電子信息產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，中國濺射靶材市場需求不斷增長。國內濺射靶材企業(yè)通過積極引進和消化吸收國外先進技術，不斷提升自身技術水平和創(chuàng)新能力，逐步打破了國外技術壁壘，實現(xiàn)了部分濺射靶材的進口替代。目前，中國市場上濺射靶材國外品牌有東曹、霍尼韋爾、日礦金屬、普萊克斯等，國內生產(chǎn)企業(yè)主要有研新材料股份有限公司、寧波江豐電子材料股份有限公司、隆華科技集團（洛陽）股份有限公司等。
　　未來，得益于智能手機、可穿戴設備、汽車電子以及5G和人工智能等新興技術的快速發(fā)展，這些領域對高性能濺射靶材的需求日益增加，全球及中國濺射靶材市場將保持穩(wěn)定的增長態(tài)勢，半導體濺射靶材市場為主要增長點。