超高純鋁濺射靶材，又稱超純鋁濺射靶材，指以純度達(dá)99.9995%的高純鋁為基材，經(jīng)深加工制成的金屬濺射靶材。超純鋁濺射靶材具備導(dǎo)熱性好、導(dǎo)電性佳、密度高、純度高等優(yōu)勢，在半導(dǎo)體芯片、光伏發(fā)電、顯示器件等領(lǐng)域擁有巨大應(yīng)用潛力。
   超高純鋁濺射靶材以高純鋁為基材制成。高純鋁主要制備方法包括偏析法、三層法兩種。偏析法指以電解鋁液或金屬熔融鋁為原材料，經(jīng)加熱、冷卻、提純等流程制得產(chǎn)品，具有綠色環(huán)保、能耗低等優(yōu)勢；三層法又稱三層液電解精煉法，具有成品質(zhì)量好、成品收率高等優(yōu)勢，可用于制備超高純鋁，但其能耗較大。隨著技術(shù)進(jìn)步，我國高純鋁產(chǎn)量不斷增長，這將為超高純鋁濺射靶材行業(yè)發(fā)展奠定良好基礎(chǔ)。
   超高純鋁濺射靶材在眾多領(lǐng)域擁有巨大應(yīng)用潛力，包括半導(dǎo)體芯片、光伏發(fā)電、顯示器件等。在半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域，超高純鋁濺射靶材可用于制造模擬芯片、存儲芯片、微機(jī)械芯片以及邏輯芯片等。近年來，全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)逐漸向我國大陸轉(zhuǎn)移，帶動芯片產(chǎn)量不斷增長。據(jù)國家工信部統(tǒng)計數(shù)據(jù)顯示，2023年我國芯片產(chǎn)量達(dá)到3514億塊，同比增長6.9%。超高純鋁濺射靶材為高端芯片重要基材，未來隨著下游行業(yè)發(fā)展速度加快，其市場空間將進(jìn)一步擴(kuò)展。
   在行業(yè)發(fā)展初期，受技術(shù)壁壘高、生產(chǎn)成本高等因素限制，我國超高純鋁濺射靶材市場被海外企業(yè)占據(jù)主導(dǎo)。德國sindlhauser公司、挪威海德魯公司（Norsk Hydro A.S.）為全球超高純鋁濺射靶材代表企業(yè)。在本土方面，受益于國家政策支持以及技術(shù)進(jìn)步，我國超高純鋁濺射靶材市場國產(chǎn)化進(jìn)程有所加快。新疆眾和股份有限公司、寧波江豐電子材料股份有限公司為我國超高純鋁濺射靶材代表企業(yè)。新疆眾和具備6N級高純鋁批量生產(chǎn)能力，其技術(shù)水平達(dá)到全球領(lǐng)先，目前產(chǎn)品已在半導(dǎo)體領(lǐng)域獲得應(yīng)用。
   超高純鋁濺射靶材作為一種超高純金屬濺射靶材，在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域需求旺盛。未來伴隨技術(shù)進(jìn)步，我國超高純鋁濺射靶材市場占比將進(jìn)一步提升。在市場競爭面，新疆眾和具備超高純鋁濺射靶材規(guī)�；�生產(chǎn)能力，占據(jù)我國市場較大份額。