離子源，是使中性原子或分子電離，并從中引出離子束流的裝置。離子源的工作原理是，采用電子轟擊、快原子轟擊、化學電離、場致電離、光電離、熱電離等方法產(chǎn)生離子，利用電場或磁場使離子加速，聚焦離子形成離子束流。

離子源主要有高頻離子源、弧放電離子源、PIG離子源、雙等離子體離子源、雙彭源等產(chǎn)品類型。其中，PIG離子源是在弧放電離子源的基礎上改進得到；雙彭源是將PIG離子源、雙等離子體離子源二者結(jié)合于一體制得。隨著技術不斷進步，新型的、性能更優(yōu)的離子源還在不斷增多。

在科研領域，離子源可應用于離子體與固體表面相互作用、等離子體化學、高溫化學、原子物理學、核物理等研究領域；在工業(yè)領域，離子源可應用在離子束沉積、離子束輔助沉積、離子束濺射鍍膜、離子注入摻雜、離子束表面改性、離子束刻蝕、離子束清洗等方面。

離子源是多種儀器、設備不可或缺的重要組成部分，可以廣泛應用在質(zhì)譜儀、同位素分離器、發(fā)射光譜儀、離子探針、離子束刻蝕設備、離子加速器、離子注入機、離子推進器、中性束注入器等產(chǎn)品制造中。

在質(zhì)譜儀領域，離子源的功能是對樣品進行電離，實現(xiàn)離子化。質(zhì)譜離子源產(chǎn)品主要有電子電離（EI）、化學電離（CI）、電噴霧電離（ESI）、基質(zhì)輔助激光解吸電離（MALDI）等類型，通常根據(jù)分析需要進行選擇。預計2023年，全球質(zhì)譜儀市場規(guī)模約為89億美元，2023-2028年將繼續(xù)以7.4%的復合年均增長率增長，這為質(zhì)譜離子源帶來廣闊發(fā)展空間。

重離子加速器可以應用在天體物理、原子物理、材料科學等研究方面，醫(yī)用重離子加速器是重要放療裝備，適于不宜手術、易復發(fā)的惡性腫瘤治療。離子注入機是一種高壓小型加速器，廣泛應用在半導體材料、大規(guī)模集成電路等離子注入方面。離子推進器是航天推力器的重要產(chǎn)品類型，可用于航天器姿態(tài)控制、軌道變動、星際飛行等方面，在航天產(chǎn)業(yè)滲透率高。總的來看，離子源市場發(fā)展前景廣闊。

在全球范圍內(nèi)，離子源生產(chǎn)商主要有美國賽默飛世爾（Thermo Fisher）、美國AB SCIEX、美國沃特世Waters、美國zeroK NanoTech、德國卡爾蔡司（Carl Zeiss AG）、捷克Tescan、日本日立（Hitachi）、中國科近泰基等。